能够研发的,首先要相信自己的国家,自力更生,艰苦奋斗,从无到有,不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难,但是中国还是取得了很大成就的。
2016年,上海微电就成功研发了90nm光刻机。
2018年,中科院的超分辨光刻机设备研发成功,目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离,但这总归是一个好的开始。
光刻机中国可以自主研发吗,在线求解答
能够研发的,首先要相信自己的国家,自力更生,艰苦奋斗,从无到有,不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难,但是中国还是取得了很大成就的。
2016年,上海微电就成功研发了90nm光刻机。
2018年,中科院的超分辨光刻机设备研发成功,目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离,但这总归是一个好的开始。
可以的,中国人能自主研发两弹一星,能攻克难关解决许许多多难关,光刻机自主创新自主研发只是时间问题,没有什么力量可以阻挡中华民族的伟大复兴。
可以。
中国可以自主生产光刻机,但是不是先进的,和国际顶尖水平还有较大差距。
目前国内自主生产的光刻机是90nm工艺的,还要进一步提高。
用专家的话来说,是不能够自己研发出来的,因为我国在光刻机领域当中,还是面临着很高的技术壁垒。
一台EUV光刻机,有超过10万个零件,来自于上千家供应链,如果中国想要独立的制造出来,意味着需要上千家供应链崛起,然后都达到顶尖水平,这个确实比较难。