中国唯一一台7nm光刻机是由中国科学院微电子研究所自主研发的，其研发工作始于2014年，目前该机已经达到了工程样机阶段。

该光刻机的研发是中国在芯片制造领域的重要突破，也是在半导体制造领域最为核心、最具关键性的设备之一。据官方消息，目前该光刻机已经完成了1万亿分之一级别的曝光，并且可以在300mm硅片上生产7nm级别的芯片。但是，该光刻机的性能仍有待进一步提高，目前与市场上的高端光刻机仍有一定差距。从整个行业的角度来看，芯片制造过程中的光刻技术是一个重要而复杂的环节。目前，全球高端光刻机市场仍然被国外公司垄断。尽管中国研发出了7nm级别的光刻机，但在取得国际市场影响力和竞争力上还需要付出更多努力。