中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。

虽然ASML光刻机技术先进，但荷兰并不是一国之力就能制造的。 其中，光学仪器来自美国，透镜组件来自德国蔡司，另外5万个零件也依赖海外进口。虽然中国已经突破了22纳米光刻机的技术，但与荷兰ASML公司的5纳米水平仍然有很大差距。 但是，技术总是从无到有，从有到优的过程，就像万事难以开始一样。 现在，国产光刻机已经有了良好的开端，相信不会让国民失望。 同时，中国在科技领域创造的奇迹已经不少了。在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，使光束透过绘有电路图的掩模，用物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小映射到硅片上，用化学方法显影，刻在硅片上的电路图