电镜制样技术包括以下几种：

1. 切片制备：将材料切成薄片，通常厚度在几微米到几十纳米之间。可以使用切片机、超声切割机、慢速切割机等设备逐层切片。

2. 离子蚀刻：通过离子束撞击样品的表面，使样品表面逐渐被蚀刻掉，并形成像沟槽、凹槽等结构。

3. 蒸发制备：通过高温蒸发材料并在基底表面形成一层厚度在几十纳米到几微米之间的金属或非金属薄膜。

4. 染色：将样品表面染上某种物质，使其可以反映电子束，以便更好地观察结构和形态。以上几种电镜制样技术，根据样品的不同性质，会选择不同的制备方法和技术组合。

电镜制样技术包括传统机械制样和离子束制样两种方法。

1. 传统机械制样：主要是通过机械打磨、抛光或切割等方法来制备样品。

2. 离子束制样：主要是利用离子束的加工作用，对材料表面进行切割、打磨和形状加工等处理，制得高质量的样品。电镜制样技术在材料科学、半导体行业、生物医学等领域应用广泛，随着科技的不断发展，电镜制样技术也在不断地进步和完善。

电镜制样技术有以下几种：

1. 薄片制备技术：将样品切成薄片，通常使用切片机或超声波切片机。

2. 离子切割技术：使用离子束将样品切割成非常薄的片，通常厚度为几十纳米。

3. 冷冻切片技术：将样品冻结在低温下，然后使用特殊的切片机将其切成薄片。

4. 离子磨削技术：使用离子束对样品进行磨削，从而制备出非常薄的样品。

5. 雷射切割技术：使用激光束将样品切割成薄片，通常使用电子显微镜观察。

6. 压缩切片技术：将样品置于高压下，然后使用切片机将其切成非常薄的片。