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光刻和设计的区别

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。

是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。设计,是一个汉语词语,指“把一种设想通过合理的规划、周密的计划、通过各种方式表达出来的过程”。人类通过劳动改造世界,创造文明,创造物质财富和精神财富,而最基础、最主要的创造活动是造物。设计便是造物活动进行预先的计划,可以把任何造物活动的计划技术和计划过程理解为设计。

光刻和设计的区别

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