纽约时装学院（常简称FIT）是美国为数不多的艺术设计类公立院校，它教育质量上乘，特别是服装设计专业享誉全球。同时，由于是公立院校，学费收费较私立院校低，留学性价比高。下面就来分享一下纽约时装学院申请攻略。

一、院校介绍

纽约时装技术学院(Fashion Institute of Technology，State University of New York)是国际著名的服装与艺术设计院校，成立于1944年，位于美国纽约市曼哈顿区。开设专业涉及如时装设计、广告设计、电脑动画及互动媒体、织物设计、室内设计、时装摄影、时尚产品管理等。创始人莫蒂默(mortimer critter)希望学院成为“一座像麻省理工学院一样的设计学院”。因此经过不懈的努力，fit已经成为具有丰富的成功的历史，在纽约城市经济的冲击下仍然持久屹立的著名学府。

二、纽约时装学院申请要求

1、本科申请要求

语言成绩：雅思：6.5分；托福80分。

申请材料：申请表、官方英文成绩单、托福或雅思成绩、作品集、短文(750字以内)本科

作品集要求：不同的专业有不同的要求，但总体来说可以借鉴如下标准进行准备。

作品集主要应由你直接观察的物体组成，以绘画、油画等方式呈现。这些作品可以包括自画像、静物画、人物画、风景画或室内画。应该使用如铅笔、水笔、炭笔、油笔等不同媒介完成作品。申请者应已具有较强的绘图和二维设计能力，要对色彩有一定的理解。构图能力是作品集考察的核心。例如室内设计看重房间的移动和两个房间之间的关系；平面设计集中于图像的眼动如何运用到广告中；服装设计考察服装在人体上的流动性。你的艺术作品应该能够反映出你对于设计理念和构成的理解，包括如何运用线条、色彩、明暗、平衡和韵律等等因素。

2、研究生申请要求

语言成绩雅思：6.5分；托福：90分。

申请材料：申请表、托福或雅思成绩、作品集、短文、简历、推荐信两封、可能需要面试。

研究生作品集要求：

展览设计：20个设计作品，包括：AutoCad或Vectorworks草图；Illustrator、InDesign和photoshop熟练运用；3D作品。提交手工创作和其他软件作品有加分。摄影、绘画、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。

插画：提交15-20个作品。必须包含写生素描。图片格式为LOW-RES(72像素)。不符合要求的作品集不会被列入考虑。不接受幻灯片、原创作品或网站链接。

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